Безмасочному рентгеновскому литографу на 13.5 нм — быть?
Добрый вечер, Хабр!
Сегодня днем случайно набрел на интересную статью от Института физики микроструктур РАН:
3 научных результата ИФМ РАН вошли в «топ-10» для представления в отчётный доклад РАН Президенту РФ и Правительству РФ (ipmras.ru)
Но нам, как в массе своей IT- сообществу, был бы интересен лишь один из них, а именно -«Инновационная разработка безмасочного рентгеновского литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники».
Что ж, похоже, повод для сдержанного оптимизма все же есть:
Разработан облик безмасочного рентгеновского литографа на основе точечного лазерно-плазменного источника излучения на 13,5 нм и микроэлектромеханической системы микрозеркал в качестве динамической маски. Созданный проекционный трехзеркальный объектив с 400-кратным уменьшением обеспечивает разрешение литографа до 20 нм. Подтверждены основные принципы, заложенные в конструкцию безмасочного рентгеновского литографа, что позволяет приступить к этапу опытно-конструкторских работ по разработке литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники.
Я пока не видел, чтобы данная новость широко публиковалась, поэтому представляю ее на глаза публике. Если что, камнями просьба не кидаться.
