Сотрудничество IMEC и ASML ускорит переход на 2-нм техпроцесс
В этой сфере потребуется литографическое оборудование нового поколения.
До конца июня ASML оставалась в тени, но даже новые санкции властей Нидерландов против Китая не могут считаться единственной темой, которая обретает актуальность в контексте деятельности этой компании, поставляющей одни из лучших литографических сканеров, используемых при производстве чипов. На этой неделе IMEC и ASML подписали соглашение о сотрудничестве, которое поможет им ускорить освоение 2-нм технологии в сфере литографии.
Источник изображения: IMEC
Как становится ясно из пресс-релиза на сайте ASML, бельгийская IMEC для исследований в этой области построит пилотную производственную линию, которая будет включать передовое оборудование ASML для работы с EUV-литографией и высоким значением числовой апертуры. Данное оборудование потребуется при серийном производстве 2-нм чипов после 2025 года, поэтому сотрудничество между IMEC и ASML имеет огромное значение для всей полупроводниковой отрасли.
