Китаю на освоение EUV-литографии потребуется не менее четырёх лет
А то и все пять, и это в лучшем случае.
По словам представителей китайской полупроводниковой промышленности, на которых ссылается издание South China Morning Post, дальнейшее её развитие будет в значительной степени зависеть от способности местных поставщиков оборудования создать литографические системы с более высокой разрешающей способностью. Проблема заключается в том, что сейчас основная часть подобной техники китайской разработки до сих пор находится в научных лабораториях, а не на производстве.
Источник изображения: Reuters
С другой стороны, разрабатывающая литографические сканеры китайская компания SMEE не может продвинуться в этом вопросе единолично, поскольку зависит от сотен более мелких поставщиков комплектующих, которым этот рывок надлежит делать синхронно. Пока компания распространяет только системы, позволяющие выпускать 90-нм чипы, а 28-нм технологию на этом уровне она освоит только в конце текущего года.
По мнению зарубежных экспертов, пройдёт не менее четырёх или пяти лет упорного труда, прежде чем китайским производителям литографических сканеров удастся приблизиться к созданию оборудования, позволяющего работать со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Некий подрядчик, которым вполне могла оказаться компания SMIC, уже научился делать для Huawei 7-нм процессоры, но достигнуто это было по обходным технологиям с использованием преимущественно импортного оборудования. «Суверенная EUV-литография» в Китае появится нескоро, как предполагают аналитики.
