В следующем году ASML поставит не более 10 сканеров, пригодных для выпуска 2-нм чипов
Из них шесть достанутся Intel.
Как сообщает TrendForce со ссылкой на южнокорейские СМИ, нидерландская компания ASML скоро представит оборудование, пригодное для выпуска 2-нм чипов. Речь, по всей видимости, идёт о сканерах для работы с EUV-излучением в сочетании с высоким значением числовой апертуры. Intel первой получила образцы подобного оборудования, и в следующем году станет основным клиентом ASML на данном направлении.
Источник изображения: ASML
По крайней мере, из десяти запланированных к выпуску соответствующих сканеров ASML шесть в следующем году достанутся именно Intel. Примечательно, что последняя активно экспериментирует с так называемым High-NA EUV оборудованием, но применять его при производстве серийных изделий по техпроцессу Intel 18A не собирается, приберегая этот переход для последующих поколений своей литографической технологии. Соответственно, нынешние закупки профильного оборудования со стороны Intel — это в большей степени задел на будущее.
Samsung, которая недавно заручилась гарантиями ASML о расширении сотрудничества, тоже будет пытаться получить новое оборудование в приоритетном порядке, поэтому TSMC в этой ситуации может быть обделена вниманием ASML. Впрочем, с 2025 года объёмы выпуска литографических сканеров для работы с High-NA EUV могут быть удвоены до 20 систем в год, поэтому к моменту начала серийного выпуска профильной продукции тайваньский клиент сможет удовлетворить основную часть своих потребностей.
Samsung выпускать 2-нм чипы собирается с конца 2025 года, а сканеры с высоким значением числовой апертуры намеревается применять как при выпуске микросхем оперативной памяти (DRAM), так и логических компонентов типа процессоров. ASML будет помогать специалистам Samsung на этом направлении деятельности.
