В России создали первый отечественный 350-нм фотолитограф
Мэр Москвы Сергей Собянин в своем официальном Telegram-канале сообщил, что в России создан первый полностью отечественный фотолитограф. Его разрешающая способность составляет 350 нм. Разработала оборудование для производства чипов российская компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва».
В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия.Сергей Собянинмэр Москвы
Как отметил Сергей Собянин, это первый и очень важный шаг на пути к производству собственной микроэлектроники, к полной технологической независимости государства. Отмечается, что фотолитограф был создан вместе в сотрудничестве с белорусским заводом, за плечами которого имеется огромный опыт в данной сфере.
Кроме того, в сообщении мэра Москвы говорится, что отечественная установка кардинально отличается от зарубежных аналогов. Например, для излучения используется не ртутная лампа, а твердотельный лазер. Он мощнее и энергоэффективнее, обладает более высокой долговечностью и у него более подходящий — узкий спектр светового излучения.
Немаловажным является и тот факт, что у фотолитографа уже имеется заказчик. На данный момент ведется адаптация техпроцессов в соответствии с производственными особенностями покупателя. Также отмечается, что на этом специалисты ОЭЗ «Технополис Москва» не намерены останавливаться. Следующая цель — освоение 130 нм к 2026 году.
Ранее в России создали первый комплекс идентификации по радужной оболочке глаза. Программно-аппаратный комплекс «Взор» может за несколько секунд точно и бесконтактно распознать человека.
