В рамках 5-нм техпроцесса EUV-литография будет использоваться гораздо активнее
Холдинг ASML пояснил перспективы внедрения литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением на своём квартальном отчётном мероприятии. Первые шаги в коммерческом использовании EUV-литографии клиенты компании сделали в рамках 7-нм технологии, но количество обрабатываемых с помощью профильного оборудования слоёв не превысит 12 штук. С переходом на 5-нм технологию количество EUV-слоёв может запросто превысить 20 штук, как утверждают представители ASML.
Фактически, по их словам, разработчики микропроцессорных компонентов до сих пор настороженно относились к возможности использования EUV-литографии. Они старались не внедрять чрезмерное количество EUV-слоёв с первой попытки, меняли в процессе разработки те слои, которые будут изготавливаться по данной технологии. Сейчас тенденция такова, что уверенность в возможностях EUV-оборудования растёт, и количество обрабатываемых с его помощью слоёв в микросхемах будет увеличиваться.
В этом отношении ASML полон оптимизма, говоря о перспективах роста спроса на EUV-сканеры. Правда, выше головы холдинг прыгнуть тоже не может — на существующих площадях компания способна выпускать 45 сканеров за квартал, либо чуть больше. Расширять производственные мощности в планы ASML не входит, поэтому остаётся только надеяться, что спрос на оборудование будет находиться в балансе с предложением. ASML убеждён, что на ближайшие два года его производственных мощностей хватит.
