Южнокорейские производители памяти готовятся к внедрению EUV-литографии
На прошлой неделе мы узнали о планах Samsung по использованию так называемой EUV-литографии при производстве микросхем и процессоров, но сегодня ресурс DigiTimes со ссылкой на корейское издание Korea’s Business Post сообщил, что оба национальных производителя памяти готовы внедрять литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением для выпуска профильной продукции.
Фактически, Samsung рассчитывает внедрить EUV-литографию при производстве микросхем памяти ещё в рамках техпроцессов так называемого 10-нм поколения, в которое входят все возможные техпроцессы с нормами от 10 до 19 нм включительно. Соответственно, и при переходе на более «тонкие» техпроцессы из диапазона до 10 нм, Samsung будет активно использовать EUV. Свои разработки на этом направлении ведёт и компания SK Hynix.
Первое время EUV-литография будет применяться только при производстве самых выгодных микросхем памяти высокой плотности. Ожидается, что переход на этот тип литографии позволит не только повысить плотность размещения элементов на микросхеме и сократить себестоимость, но и поднять быстродействие, одновременно снизив энергопотребление.
Напомним, что Micron особой потребности в спешном внедрении EUV при производстве памяти не видит, но на фоне подобной активности корейских конкурентов американский производитель может и передумать.
