TSMC считает High-NA EUV слишком дорогим удовольствием, но присматривается к соответствующему оборудованию
Выпускать чипы по технологии A16 планируется на имеющемся.
Старший вице-президент TSMC Кевин Чжан (Kevin Zhang) менее трёх недель назад уже заявлял, что компания не видит смысла внедрять литографические сканеры ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) при производстве чипов по технологии A16, которая будет освоена ею во второй половине 2026 года, рассчитывая справиться с задачей при помощи имеющегося оборудования для EUV-литографии. Как отмечает Reuters, на этой неделе представитель TSMC повторил подобные доводы, выступая на отраслевом симпозиуме в Нидерландах.
Источник изображения: Business Wire
Само по себе оборудование с высокой числовой апертурой нравится TSMC, но компанию отталкивает высокий ценник. Один литографический сканер нового поколения может стоить около $380 млн, тогда как система текущего поколения обходится немногим более $200 млн. Конечно, TSMC будет изучать возможность внедрения High-NA EUV, но сделает это при подходящем сочетании экономических условий и технологической необходимости. В частности, предприятия TSMC для выпуска чипов по технологии A16 могут быть изначально приспособлены под установку соответствующего оборудования в дальнейшем, чтобы облегчить модернизацию производства, как пояснил Кевин Чжан.
