Санкции США в сфере литографии вряд ли ограничатся предлагаемыми сейчас мерами
Представители DigiTimes Research в своих рассуждениях на тему развития американских экспортных ограничений в сфере литографии приходят к выводу, что со временем речь пойдёт о полном запрете на поставку в Китай оборудования, пригодного для работы с иммерсионной литографией в сочетании с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV).
Источник изображения: DigiTimes Research
Пока речь идёт о включении в запретный перечень только трёх моделей литографических сканеров ASML из числа наиболее продвинутых в этом сегменте, но эксперты DigiTimes Research убеждены, что «аппетит приходит во время еды». Теоретически, с помощью такого оборудования можно создавать чипы с нормами 16 и 14 нм, но запрет на его поставки в Китай навредит и выпуску 28-нм продукции. В настоящий момент около 80% выручки китайского контрактного производителя чипов SMIC формируются компонентами с литографическими нормами выше 40 нм, поэтому санкции вредят лишь самой передовой продукции, которой в Китае выпускается не так много.
Другой сценарий, который может использоваться США для дополнительного ослабления полупроводниковой отрасли КНР, заключается в изучении ассортимента заказов, которые китайские клиенты будут вынуждены отправлять зарубежным контрактным производителям. Эту информацию чиновники США могут использовать, чтобы формировать новый этап санкционных ограничений против КНР. Успех этой затеи во многом будет определяться готовностью зарубежных подрядчиков сотрудничать с властями США.
Китайская полупроводниковая промышленность ещё долго будет зависеть от зарубежных поставщиков, и пока те же химикаты из Японии никак не попадают под санкции, поэтому усилия США по сдерживанию развития Китая могут быть направлены и в это русло. Лишь 20% оборудования, необходимого для производства чипов, китайские компании могут получать внутри страны. Власти хотели бы увеличить эту долю, но сделать это в сжатые сроки будет сложно.
