Samsung тоже получит от ASML оборудование для литографии с высокой числовой апертурой
Не хуже Intel и TSMC.
Издание Business Korea наконец поделилось итогам поездки главы Samsung Electronics Ли Джэ Ёна (Lee Jae-yong) в Европу в середине этого месяца. На предприятии ASML в Нидерландах руководитель корейского гиганта не только изучил образцы передового литографического оборудования, но и договорился с поставщиками о получении сканеров нового поколения с высоким значением числовой апертуры. Такое оборудование, судя по активности конкурентов, потребуется Samsung для выпуска компонентов по литографическим нормам менее 2 нм.
Источник изображения: Business Korea
В частности, Intel собирается начать применение так называемой High-NA EUV литографии в серийном производстве с 2025 года при выпуске компонентов по технологии 18A, и уже договорилась с ASML о получении первого экземпляра соответствующего литографического сканера. TSMC отметила, что будет применять такое оборудование в своей работе с 2024 года. Теперь и Samsung Electronics признаёт, что последует примеру конкурентов, хотя и не уточняет сроки. Один сканер нового поколения стоит более $385 млн, поэтому при необходимости закупки нескольких десятков экземпляров нагрузка на компанию заметно вырастет. Здесь бы пригодились государственные субсидии, но в Южной Корее правительство пока отдаёт инициативу в этой сфере в руки частных компаний.
