Один из клиентов ASML готовится увеличить количество слоёв с EUV в два раза
Нидерландский холдинг ASML является крупнейшим поставщиком литографических сканеров, которые необходимы для изготовления микропроцессорных компонентов. По итогам текущего года компания рассчитывает отгрузить 55 сканеров, предназначенных для работы с литографией со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением. Аналитики попытались узнать у генерального директора ASML Петера Веннинка (Peter Wennink), чем обусловлен такой заметный рост спроса на оборудование для EUV-литографии.
Глава ASML в качестве примера сослался на одного из крупных клиентов компании, который заявил о намерениях удвоить количество EUV-слоёв в своих изделиях при переходе на следующую ступень литографии. Надо сказать, что внедрение EUV-литографии традиционно шло поэтапно, от одного-двух слоёв до трёх-пяти и так далее. Хотя, конечно, если рассматривать переход от трёх слоёв к шести, то говорить об удвоении можно совершенно спокойно.
О каком клиенте идёт речь, можно только гадать. TSMC, Samsung и даже Intel закупают у ASML оборудование для EUV-литографии, хотя последняя её внедрит только в рамках 7-нм технологии. Соответственно, удваивать количество слоёв с EUV-литографии ей просто неоткуда, базы для сравнения просто не существует. Значит, речь идёт либо о TSMC, либо о Samsung. Обе уже готовятся внедрить 3-нм литографию, а 5-нм изделия выпускают серийно. При этом TSMC сперва перейдёт на 4-нм техпроцесс, но он количество EUV-слоёв увеличит не так радикально, а потому не может считаться самостоятельной ступенью литографии.
