Низкий интерес Micron к EUV-литографии продиктован экономическими соображениями
В июне этого года глава Micron Technology уже пояснял, что внедрение литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением для производства микросхем памяти не представляется экономически целесообразным в обозримой перспективе. На прошлой неделе, выступая на мероприятии Credit Suisse, Санджей Мехротра (Sanjay Mehrotra) подобную точку зрения отстаивал с прежним упорством.
Используя наборы из нескольких шаблонов, Micron сможет выпускать без EUV-литографии микросхемы памяти, близкие по технологическим нормам к 10 нм. И по мере приближения к этому этапу, альтернатива в качестве EUV-литографии будет оставаться более дорогим способом производства.
Тем не менее, на этот раз Мехротра озаботился имиджем компании, и пояснил, что Micron вполне по силам внедрить EUV-литографию — соответствующие сканеры уже есть в лабораториях этого производителя памяти, ведутся профильные эксперименты. Пока использование нескольких шаблонов обходится значительно дешевле. Отказ от внедрения EUV в ближайшие годы — это не вопрос технической компетенции Micron, а сугубо экономический выбор.
