Инженеры Intel добились рекордного повышения продуктивности процессоров за всю историю компании
/imgs/2020/08/14/11/4051113/03485046ba119da50641469bd03db619fad6ab83.png)
По заявлению самих разработчиков, открытый ими метод позволит качественно улучшить параметры полупроводниковых устройств. При этом специалисты техногиганта не перестают отмечать, что данная разработка — самый удачный в истории Intel опыт оптимизации производственного процесса.
«Это 20%, самый большой внутриузловой скачок за всю нашу историю. Это очень большое повышение производительности, мы гордимся тем, что разработали этот метод», — заявил главный архитектор Intel Раджа Кодури.
Отметим, что представители компании также заявили, что в будущем планируется провести еще одну оптимизацию техпроцесса, которую в свою очередь назовут Enhanced SuperFin.
© Ferra.ru