Intel вскоре получит вторую литографическую машину для High-NA EUV
От компании ASML, хотя заплатит за неё почти $400 млн ближе к следующему году.
На квартальном отчётном мероприятии в конце прошлой недели, как отмечает Reuters, генеральный директор Intel Патрик Гелсингер (Patrick Gelsinger) вскользь упомянул, что компания уже ожидает поставки второго литографического сканера ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). Применять подобные в условиях массового производства чипов по технологии Intel 14A она собирается с 2027 года, а пока будет проводить эксперименты с данным оборудованием в своём исследовательском центре в Орегоне.
Источник изображения: Intel
Первый литографический сканер такого класса Intel установила в этом центре ещё в апреле, и если верить неофициальной информации, компания забронировала почти всю квоту по таким литографическим системам ASML на текущий год. Впрочем, это не помешало ASML установить такой же сканер в своей собственной лаборатории в Нидерландах, а также передать аналогичную систему бельгийской IMEC, которая занимается изучением литографических технологий. Как утверждает Гелсингер, компания вполне довольна первыми итогами экспериментов с данным типом оборудования.
