Intel созрела для внедрения EUV-литографии только в рамках 7-нм технологии
Когда приглашённые на технологическую конференцию Citi аналитики начали задавать корпоративному вице-президенту Intel вопросы о затруднениях с освоением 10-нм технологии, Джейсон Гриб (Jason Grebe) не стал утаивать от гостей мероприятия, что первоначально компания планировала внедрить так называемую EUV-литографию ещё в рамках 10-нм технологии. Более того, использование EUV при выпуске 10-нм продукции позволило бы избежать технологических сложностей, которые и задержали освоение массового производства 10-нм продуктов. С другой стороны, Джейсон признаёт, что агрессивные цели, поставленные при освоении 10-нм технологии, и без того усложнили жизнь компании, и это даже хорошо, что к внедрению EUV-литографии Intel подходит уже в контексте освоения 7-нм технологии.
Особых проблем с освоением 7-нм технологии Intel не наблюдает, даже с учётом использования EUV. Именно 7-нм техпроцесс позволит компании вернуться к двухгодичному циклу обновления литографических технологий. Компания довольна своим прогрессом по освоению 7-нм технологии, и уровнем энергопотребления соответствующих продуктов, и их быстродействием. Первые 7-нм изделия Intel выйдут в 2021 году, эстафету откроет графический процессор для серверного применения.
