Intel может задержаться с внедрением EUV-литографии до 2021 года
Трудности Intel с освоением 10-нм технологии, по мнению цитируемых ресурсом EE Times экспертов Bernstein, могут оказаться не единственной проблемой, с которой процессорному гиганту предстоит столкнуться в ближайшие годы. Как ожидают отраслевые аналитики, проявлявшая интерес к внедрению EUV-литографии с девяностых годов прошлого века компания может оказаться в числе последних, кто её в итоге освоит. По крайней мере, сейчас эксперты имеют основания утверждать, что до конца 2021 года Intel вряд ли внедрит на своём производстве литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением.
Источник изображения: Seeking Alpha
GlobalFoundries планировала использовать EUV-литографию в рамках 7-нм технологии, но недавно отказалась от освоения последней на неопределённый срок. TSMC начнёт применять элементы EUV в рамках второго поколения 7-нм техпроцесса в следующем году, но не более нескольких слоёв. Samsung задержится на несколько месяцев относительно TSMC, но сразу внедрит EUV-литографию для 7–8 слоёв, как ожидают специалисты. TSMC внедрит EUV в серийном производстве во второй половине следующего года. Пока предложение TSMC выглядит лучшим по сравнению с Samsung, поскольку её версия 7-нм техпроцесса предлагает более высокую производительность, более низкое энергопотребление, а также более высокую плотность размещения транзисторов. Сможет ли Samsung догнать конкурента за счёт более агрессивного внедрения EUV-литографии, сейчас с уверенностью сказать сложно.
