Intel и TSMC разрабатывают метод ультрафиолетовой литографии

Intel и TSMC разрабатывают метод ультрафиолетовой литографии Сайт EE Times сообщает, что компании Intel и TSMC объявили о начале совместной работы по подготовке технологии экстремальной ультрафиолетовой литографии, которая должна помочь проще создавать меньшие и более быстрые процессоры в будущем. Intel и TSMC разрабатывают метод ультрафиолетовой литографии →

©  nvWorld.ru