Canon предлагает клиентам оборудование нового типа для производства 5-нм чипов
Оно пока не попадает под санкции США и Японии, направленные против Китая.
По данным Bloomberg, на этой неделе японская компания Canon объявила о начале поставок литографического оборудования принципиально нового типа, которое позволяет создавать чипы, по своим параметрам сопоставимые с 5-нм изделиями, полученными при помощи оборудования конкурирующих поставщиков. В дальнейшем Canon рассчитывает усовершенствовать свою технологию нанопечатной литографии, чтобы позволить выпускать с её помощью 2-нм изделия.
Источник изображения: Canon
Применяемая Canon технология нанопечатной литографии не предусматривает экспозицию фотошаблонов, как в классическом случае с оптической литографией. В 2014 году Canon поглотила разработчика данного метода «печати» интегральных микросхем, компанию Molecular Imprints, и с тех пор потратила почти десять лет на доводку данной технологии до коммерческой готовности. Kioxia стала одним из партнёров Canon по испытанию данного типа оборудования при производстве микросхем памяти, и считается, что такое технологическое решение станет более дешёвой альтернативой оптической EUV-литографии.
Представители Canon пока не готовы сказать, подпадает ли данный тип оборудования под экспортные ограничения в адрес Китая, которые японские власти приняли с конца июля этого года под нажимом американских партнёров. Теоретически, у китайских компаний есть какое-то время, чтобы закупить необходимое японское оборудование на вполне легальных основаниях.
