ASML задумалась о создании литографических сканеров со сверхвысокой числовой апертурой
И готова унифицировать платформу для снижения затрат и упрощения модернизации оборудования для выпуска чипов.
Выход на заслуженный отдых, как отмечает издание Bit&Chips, не помешал техническому директору ASML Мартину ван ден Бринку (Martin van den Brink) поделиться с посетителями форума ITF World в Антверпене, который был организован компанией Imec, специализирующейся на разработках в сфере литографии.
Источник изображения: Bits&Chips
Как известно, в этом году и конце прошлого ASML начала поставлять первые литографические сканеры для работы с EUV-литографией в сочетании с высоким значением числовой апертуры (High-NA). Если говорить конкретно, значение параметра увеличено с 0,33 до 0,55, что позволяет получать на кремниевой пластине более компактные элементы и тем самым увеличивать плотность размещения транзисторов, поднимая производительность микропроцессорной техники.
Где-то в следующем десятилетии, как можно понять из доклада представителя ASML, компания рассчитывает начать выпуск литографических сканеров со сверхвысоким значением числовой апертуры (0,75), которые по классификации производителя получили обозначение Hyper-NA. Впрочем, как поясняет источник, пока сроки появления такого оборудования ещё не определены окончательно, поскольку очевидно, что оно будет очень дорогим. Тем не менее, ASML надеется в дальнейшем создать унифицированную платформу для своих EUV-сканеров, позволяющую выпускать оборудование с разным значением числовой апертуры. В случае необходимости новейшие компоненты можно будет переставлять на оборудование предыдущего поколения, обновляя его характеристики.
