ASML начала снабжать Intel передовым оборудованием, которое позволит освоить техпроцессы тоньше 2 нм
Но не ранее 2026 года.
Корпорация Intel на этой неделе со страниц одной популярной социальной сети выразила благодарность представителям ASML за первый отгруженный литографический сканер с высоким значением числовой апертуры (High NA EUV), который позволит первой из компаний в перспективе освоить выпуск чипов по техпроцессам «тоньше» 2 нм. В серийном производстве такие технологии и оборудование будут использоваться уже в 2026 или 2027 году.
Источник изображения: ASML
Предполагается, что первый литографический сканер Twinscan EXE:5000, упакованный в 230 ящиков и помещённый в 13 морских контейнеров, отправится в исследовательский центр Intel в Орегоне, где у компании есть опытная линия по выпуску чипов с использованием передовых техпроцессов. Там эта система будет использоваться для экспериментов с техпроцессами «тоньше» 2 нм, а выпускать чипы по технологии Intel 18A компания будет на оборудовании прежнего поколения. Формально, все конкуренты Intel смогут производить чипы по технологиям «тоньше» 2 нм и без сканеров с высоким значением числовой апертуры, но это потребует дополнительных затрат на оснастку и увеличит затраты времени на изготовление продукции.
Intel опережает конкурентов в получении доступа к передовому оборудованию ASML, а это значит, что её шансы на возвращение технологического лидерства в сфере литографии возрастают.
