Samsung готовится использовать EUV-литографию при производстве памяти
Компания Micron регулярно заявляет, что готова осваивать новые ступени литографических технологий при производстве микросхем памяти без перехода на так называемую литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Сайт DigiTimes со ссылкой на корейское издание News1 Korea сообщает, что Samsung начала разработки, позволяющие использовать EUV-литографию при производстве микросхем оперативной памяти по техпроцессам 1у-нм класса.
Источник изображения: Laser Focus World
То есть, если всё пойдёт по плану, то Samsung сможет использовать EUV-литографию ещё до перехода на 10-нм техпроцесс при производстве оперативной памяти. Случится это примерно в 2020 году, как ожидает источник. Зато для производства 7-нм микропроцессоров с применением EUV-литографии экосистема Samsung созреет уже во второй половине этого года, а в первой половине следующего ключевые заказчики завершат разработку профильных изделий, которые будут выпускаться по данной версии техпроцесса.
